是一款可靠的采用X-射線熒光方法和*的微聚焦X-射線光學(xué)方法來(lái)測(cè)量和分析微觀結(jié)構(gòu)鍍層的測(cè)量系統(tǒng)。
可應(yīng)用于在線膜厚測(cè)量,測(cè)氧化物,SiNx,感光保護(hù)膜和半導(dǎo)體膜.也可以用來(lái)測(cè)量鍍?cè)阡?/span>,鋁,銅,陶瓷和塑料等上的粗糙膜層. 薄膜表面或界面的反射光會(huì)與從基底的反射光相干涉,干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數(shù)等有關(guān),因此可通過(guò)計(jì)算得到薄膜的厚度.光干涉法是一種無(wú)損,精確且快速的光學(xué)薄膜厚度測(cè)量技術(shù),薄膜測(cè)量系統(tǒng)采用光干涉原理測(cè)量薄膜厚度。