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IKN實驗室膠體是我司專為各大院校、科研單位和工廠實驗室所設計的一款小型分散設備，帶有轉數數字顯示，無機調速，可24小時不停機運行，運行穩定，噪音小，操作方便，易清洗，易拆卸，是實驗室的設備之選。

實驗室膠體磨的特點 CM2000/4實驗室膠體磨是專門為膠體溶液生產所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。 CM2000/4實驗室膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。 CM2000/4實驗室膠體磨的定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。   實驗室膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。在固態物質較多時也常常使用膠體磨進行細化。 物料粘度或固含量高導致不能正常進料和輸送時，須選用壓力或輸送泵進料或送料，輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。  公司另外一項*的創x，就是錐體磨CMO2000系列，它的設計使其功能在原有的CM2000的基礎上又進了一步。由于這項創x，CMO2000能夠濕磨和研磨，產生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無級調節，從而可以得到精確的研磨參數。研磨頭的表面涂上了一層極其堅硬的硬質材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質材料是由碳化物、陶瓷等高質量物質構成，并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個具有強烈剪切的區域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想。

膠體磨磨頭介紹：

研磨頭表面涂料一層及其堅硬的硬質材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理，這種硬質材料是由碳化物、陶瓷等高質量物質構成，并且具有不同的粒徑，研磨頭處形成了一個具有較強的剪切區域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和zui后粒徑大小的效果都很理想。

膠體磨技術優勢：

1、只進行閥門切換，泵和磨連續運行，真正實現不間斷生產 。

2、可據用戶需要加工定制，所有型號均預留有外接接口，可擴展其功能及產量，既可固定式建廠生產也可移動式現場生產。

3、有手動/自動一體和手動兩種控制模式。

4、可生產超高含量的改性乳化瀝青（SBS含量≥4%，瀝青含量≥65%）。

5、可生產超高含量的改性瀝青（SBS含量≥12%）。

6、現場指導安裝、操作，提供*化、Zuixian進的生產工藝和配方。

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膠體磨的基本原理：
　　膠體磨在電動機的高速轉動下物料從進口處直接進入高剪切破碎區，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸 入剪切粉碎區，在十分狹窄的工作過道內由于轉子刀片與定子刀片相對高速切割從而產生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動和離心力的作用下，將已粉碎細化的物 料重新壓入精磨區進行研磨破碎，精磨區分三級，越向外延伸一級磨片精度越高，齒距越小，線速度越長，物料越磨越細，同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一 級流體的方向速度瞬間發生變化，并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經過三個精磨區的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之 后，從而產生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達到分散、粉碎、乳化、均質、細化的目的。液料的zui小細度可達0.5um。

　　膠體磨是流體或半流體物料通過高速相對連動的定齒與動齒之間，使物料受到強大的剪切力，磨擦力及高頻振動等作用，有效地被粉碎、乳化、均質、混合，從而獲得滿意的精細加工的產品。

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