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IKN研磨分散機設計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調整。
外觀為白色粉末或顆粒,無毒,不溶水,難溶于冷乙醇,溶于甲苯、熱乙醇、lu仿、乙mi等有機溶劑,相對密度0.96左右,具有特殊的表面潤滑作用,優良的外部潤滑效果和脫模性,透明性和抗靜電性能好。
用 途:
1、可用作PE、 PP、BOPP、EVA、LDPE、PVC和PVDC等的潤滑劑和防粘劑,塑料抗靜電劑,塑料發泡控制劑;
2、可用作橡膠的潤滑劑、脫模劑和分散劑,改善膠料的加工性,提高顏料、填料的分散效果,磺化橡膠光亮脫模劑和壓延助劑。
3、可用作超微細水性乳化分散液,廣泛用于熱敏紙的增感劑等。
4、塑料鉛筆(筆芯)和油墨的配合劑,涂布紙的潤滑劑和精密鑄造用蠟;
5、硅烷交聯聚乙烯材料和醛酚層壓板(紙基板)的潤滑劑。
6、復合肥料和硝suan銨的松散劑和防結塊劑。
7、硬質PVC壓延膜的內外潤滑劑和表面光亮劑。
8、可用作道路瀝青的改性劑,以及PA-6碳纖維等改性材料的分散潤滑劑。
上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質等功能,設備轉速可達14000rpm,是目前國產設備轉速的4-5倍。
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從設備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:
1.研磨頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結構(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)
5.循環次數(越多效果越好,到設備的期限就不能再好了。)
線速度的計算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉子直徑)X 轉速 RPM / 60
所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的
CMD2000系列研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節到zui大允許量的10%
工藝應用:
☆食品纖維類物料的濕法超細破碎與均質 ☆可溶物(或互溶物)固體和液體加速溶解
☆動物和植物組織的超細破碎及漿化加工 ☆不相溶的固-液相懸浮物超細混合分散
☆不相溶的固-液相懸浮物超細混合分散 ☆納米材料團聚物的強力解聚與超細分散
研磨分散機的優勢:
更穩定 采用優化設計理念,將先x的技術與創x的思維有效融合,并體現在具體的設備結構設計中,為設備穩定運行提供了保證.
新結構 通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力
更可靠 采用整體式機械密封,zui大程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質污染等問題,安裝與更換方便快捷.
新技術 采用國x先x的受控切割技術,將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內,滿足生產中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.
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