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思峻機械研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。
石墨烯(Graphene)是一種由碳原子以sp²雜化軌道組成六角型呈蜂巢晶格的二維碳納米材料。
石墨烯具有優異的光學、電學、力學特性,在材料學、微納加工、能源、生物醫學和藥物傳遞等方面具有重要的應用前景,被認為是一種未來革命性的材料。 英國曼徹斯特大學物理學家安德烈·蓋姆和康斯坦丁·諾沃肖洛夫,用微機械剝離法成功從石墨中分離出石墨烯,因此共同獲得2010年諾貝爾物理學獎。
石墨烯常見的粉體生產的方法為機械剝離法、氧化還原法、SiC外延生長法,薄膜生產方法為化學氣相沉積法(CVD)。 2018年3月31日,中國首條全自動量產石墨烯有機太陽能光電子器件生產線在山東菏澤啟動,該項目主要生產可在弱光下發電的石墨烯有機太陽能電池(下稱石墨烯OPV),破解了應用局限、對角度敏感、不易造型這三大太陽能發電難題
由于石墨烯的特殊結構,采用砂磨機容易破壞片層結構。所以目前大多數廠家都在使用我司高剪切研磨分散機進行石墨烯漿料的處理,研磨分散機是將膠體磨(研磨機)和分散機合二為一的設備。工作原理為定轉子高速運轉產生強大的剪切力、離心力,對物料進行剪切、剝離、分散、細化。所以特別適合石墨烯漿料的生產,并且不容易破壞片層結構。
石墨烯的研究與應用開發持續升溫,石墨和石墨烯有關的材料廣泛應用在電池電極材料、半導體器件、透明顯示屏、傳感器、電容器、晶體管等方面。鑒于石墨烯材料優異的性能及其潛在的應用價值,在化學、材料、物理、生物、環境、能源等眾多學科領域已取得了一系列重要進展。 研究者們致力于在不同領域嘗試不同方法以求制備高質量、大面積石墨烯材料。并通過對石墨烯制備工藝的不斷優化和改進,降低石墨烯制備成本使其優異的材料性能得到更廣泛的應用,并逐步走向產業化。
中國在石墨烯研究上也具有*的優勢,從生產角度看,作為石墨烯生產原料的石墨,在我國儲能豐富,價格低廉。正是看到了石墨烯的應用前景,許多國家紛紛建立石墨烯相關技術研發中心,嘗試使用石墨烯商業化,進而在工業、技術和電子相關領域獲得潛在的應用。如歐盟委員會將石墨烯作為“未來新興旗艦技術項目”,設立專項研發計劃,未來10年內撥出10億歐元經費。英國政府也投資建立國家石墨烯研究所(NGI),力圖使這種材料在未來幾十年里可以從實驗室進入生產線和市場。
石墨烯有望在諸多應用領域中成為新一代器件,為了探尋石墨烯更廣闊的應用領域,還需繼續尋求更為優異的石墨烯制備工藝,使其得到更好的應用。 石墨烯雖然從合成和證實存在到今天只有短短十幾年的時間,但是已成為今年學者研究的熱點。其優異的光學、電學、力學、熱學性質促使研究人員不斷對其深入研究,隨著石墨烯的制備方法不斷被開發,石墨烯必將在不久的將來被更廣泛的應用到各領域中。
石墨烯漿料的制備方法
(1)超聲波分散設備:非常適合實驗室規模、低粘度介質分散石墨烯,用于中、高粘度介質時會受到限制,而且處理量比較小,不適合規模生產
(2)砂磨機:能夠均勻的細化石墨烯的粒徑,但是工作時間長,而且容易破壞石墨烯的原子機構,耗材更換成本高,
(3)采用研磨分散機“先把抱團粒徑打開,還原物料的原始粒徑,再把物料進步細化剝離”可以高效的得到理想的石墨烯漿料
石墨烯高剪切研磨分散機是研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達到顆粒*被分離(separating)、潤濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩定(stabilization)目的。
石墨烯薄膜是除石墨烯粉體外的另一種重要形態。從石墨烯薄膜性能上看,具備完整的較強導電性、透光性、柔性及微電子等屬性。目前ITO的替代材料有金屬網格、碳納米管、納米線等,而其中熱門的候選為石墨烯。可以將石墨烯薄膜作為感應層或者驅動層,被使用在觸摸屏的模組里。
SGN石墨烯研磨設備采用德國*的高速研磨分散技術,通過超高轉速(高可達18000rpm)帶動超高精密的磨頭定轉子(通常配GM+8SF,定轉子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設備的高線速度下形成湍流,在定轉子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質,從而得出超細的顆粒(當然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點可以得出理想的導電石墨烯漿料。
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上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。簡單的說就是將SGN/思峻膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) SGN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質等功能,設備轉速可達18000rpm,是目前國產設備轉速的4-5倍。
GMSD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
設備等級:化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇:380V/50Hz、220V/60Hz、440V/50Hz
電機選配件:PTC 熱保護、降噪型
均質機材質:SUS304、SUS316L、SUS316Ti
均質機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
均質機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯結形式:法蘭、螺口、夾箍
乳化機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器
分散均質機高剪切分散均質機,實驗室均質機
應用于:奶油、化妝品、牙膏、果汁、洗滌劑、漿糊、鹽溶液、催化劑、涂漆、聚合物乳化液、農藥(除草劑、殺蟲劑)。
GMSD2000 研磨分散機參數表
SGN高剪切研磨分散機選型表:
| 標準流量(H2O) | 輸出轉速 | 標準線速度 | 馬達功率 | 進出口尺寸 |
|
型號 | l/h | rpm | m/s | kW |
| 型號 |
GMSD 2000/4 | 400 | 18000 | 51 | 4 | DN25/DN15 | GSMD 2000/4 |
GMSD 2000/5 | 1500 | 13500 | 51 | 7.5 | DN40 /DN 32 | GSMD 2000/5 |
GMSD 2000/10 | 4000 | 9257 | 51 | 22 | DN50 / DN50 | GSMD 2000/10 |
GMSD 2000/20 | 10000 | 3664 | 51 | 37 | DN80 /DN 65 | GSMD 2000/20 |
GMSD 2000/30 | 60000 | 1825 | 51 | 55 | DN150 /DN 125 | GSMD 2000/30 |
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