20T/H反滲透超純水設備技術的應用使反滲透超純水設備從傳統的陽離子交換器、脫碳、陰離子交換器、復合離子交換器得到了一次進步。

　　20T/H反滲透超純水設備產水下限0.25m3/小時，上限100噸/小時，水回收率一般可達75%以上，脫鹽率>98%。反滲透超純水設備產水量隨進水溫度下降和反滲透膜老化或受污染有一定變化。

　　20T/H反滲透超純水設備設計原則

　　品質—依照客戶生產所需超純水的水質要求及生產特點，并考慮水源的水質(需客戶提供水質分析報告或源水樣品)。

　　可擴充性—系統分段設計規劃，考慮就近用水和生產安全需要，可依照生產線需求隨時擴充產能，客戶可分階段投資。

　　20T/H反滲透超純水設備制造技術

　　反滲透是用足夠的壓力使溶液中的溶劑(一般常指水)通過反滲透膜(一種半透膜)而分離出來，方向與滲透方向相反，可使用大于滲透壓的反滲透法進行分離、提純和濃縮溶液。反滲透膜的主要分離對象是溶液中的離子范圍。

　　20T/H反滲透超純水設備優點

　　①不需加熱、沒有相變。

　?、谀芎纳伲^程連續穩定。

　?、墼O備體積小、操作簡單，適應性強。

　?、軐Νh境不產生污染。

　　20T/H反滲透超純水設備根據不同的原水水質采用不同的工藝。一般自來水經一級反滲透系統處理后，產水電導率<10-20μS/cm，經二級反滲透系統后產水電導率<5μS/cm甚至更低，在反滲透系統后輔以離子交換設備或EDI設備可以制備超純水，使電阻率高達18兆歐姆.厘米。 反滲透膜老化或受污染后，產水質量會下降。

　　20T/H反滲透超純水設備工藝流程

　　1、預處理→反滲透→純化水箱→離子交換器→紫外燈→純水泵→用水點

　　2、預處理→一級反滲透→二級反滲透(正電荷反滲膜)→純化水箱→純水泵→紫外燈→用水點

　　3、預處理→反滲透→中間水箱→中間水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外燈→用水點

　　4、預處理→紫外線殺菌裝置→一級RO裝置→二級RO裝置→中間水箱→EDI裝置→脫氧裝置→氮封純水箱→除TOC UV裝置→拋光混床→超濾裝置→用水點

　　水質符合美國ASTM標準，電子部超純水水質標準(18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級)

　　20T/H反滲透超純水設備廣泛應用于

　　電子工業用水：集成電路、硅晶片、顯示管等電子元器件沖洗水。

　　制藥行業用水：制藥行業用水、大輸液、針劑、片劑、生化制品、設備清洗等。

　　化工行業工藝用水：化工循環水、化工產品制造等。

　　電力行業：鍋爐補給水 　火力發電鍋爐、廠礦中低壓鍋爐動力系統等。

　　食品工業用水：飲用純凈水、飲料、啤酒、白酒、保健品等。

　　海水、苦咸水淡化：海島、艦船、海上鉆井平臺、苦咸水地區等。

　　飲用純凈水：房產物業、社區、企事業單位等。

　　超聲波清洗用水：電腦配件、特種材料、精密機械等要求高清潔度的超聲波清洗線。

　　電鍍行業用水：清洗工件用水，槽液用水。

　　其它工藝用水：汽車、家電涂裝、鍍膜玻璃、化裝品、精細化學品等。

　　20T/H反滲透超純水設備、新型電子廠超純水設備是采用專用RO反滲透技術設計，關鍵控制部件、高壓泵、膜組件采用進口產品，工藝，質量可靠，結構合理占地小，水利用率高，能耗低，全自動化方式運行，操作維護簡單。