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深圳市科晶智達科技有限公司
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簡要描述:GSL-1100X-PJF-A是等離子槍和可控制的樣品臺結合在一起的產品,有自動控制的樣品臺,就可使等離子槍按設定程序對樣品表面進行更均勻涂覆和處理,保證處理樣品表面的*性和均勻性。此系統是由RF發生器、氣體傳輸管、等離子槍頭和X-Y移動的工作臺(帶有真空吸盤和控制盒)。此系統產生等離子束可在非真空和低溫狀態下活化和清洗樣品表面,可處理的樣品有單晶片,光學元件和塑料等,也可在常壓下進行等離子增強
GSL-1100X-PJF-A是等離子槍和可控制的樣品臺結合在一起的產品,有自動控制的樣品臺,就可使等離子槍按設定程序對樣品表面進行更均勻涂覆和處理,保證處理樣品表面的*性和均勻性。此系統是由RF發生器、氣體傳輸管、等離子槍頭和X-Y移動的工作臺(帶有真空吸盤和控制盒)。此系統產生等離子束可在非真空和低溫狀態下活化和清洗樣品表面,可處理的樣品有單晶片,光學元件和塑料等,也可在常壓下進行等離子增強氣相沉積。
技術參數 | |
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主要參數 |
● 工作環境:溫度 < 42°C,濕度 ≤ 40℃RH ● 輸入電源:208 V- 240VAC, 50Hz, < 1000W ● 等離子體工作壓力
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RF發生器 |
● 輸出頻率:20-23kHz , 25KV ● 等離子槍頭:儀器中包括兩種等離子槍頭:圓形頭:10-12mm,矩形頭:15-18mm ●
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輸入氣體氣壓,工作氣體 |
● 40 PSI min.(0.055 Mpa) ● Air, N2, Ar, He 或混合氣體(不可通入易燃易爆氣體 )
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樣品臺和控制柜 |
● 配有可在X-Y軸移動的樣品臺,通過步進電機驅動,采用SBC控制盒控制 ● 可手動調節樣品臺在Z軸方向上的移動距離 ● 控制盒采用LCD顯示,可設置其等離子槍頭的掃描程序 ● 大掃描范圍:8" x 9" ● 一個直徑為4"的真空吸盤安裝在X-Y樣品臺上,可吸住直徑為6"的樣品 ● 配有一真空泵,可與真空吸盤相連接 ● 整個系統安裝在一移動架上(600x600x 800Lmm) ● 可選:可選加熱樣品臺(MAX溫度可加熱到500℃),也可將設備放置在手套箱中操作 ●
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外形尺寸 |
● 處理樣品臺尺寸:560mm L x483mm W x 609mm H ● 等離子源尺寸: 406mm L x 508mm W x 230mm H ● 控制盒尺寸:330mm L x 305mm W x 152mm H
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凈重 |
55kg
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認證 |
CE認證
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質保期 |
● 一年保修,終身技術支持。 ● 特別提示:1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內。 ● 點擊查看售后服務承諾書。
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文獻 |
● 請點擊鏈接以了解更多關于AP-PECVD應用的信息:常壓等離子體增強化學氣相沉積(AP-PE-CVD)用于在低溫下生長薄膜。 |
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