KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S-1200℃高溫真空CVD設備-鄭州科佳電爐有限公司

產品介紹：

KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S型高溫真空CVD設備由KJ-T1200滑動式快速退火管式爐+真空系統+供氣系統組成，溫度可以達到1200度,可以是單溫區、雙溫區、三溫區等，極限真空可以達到10-3Pa，供氣系統是流量調節可以是質子流量計或浮子流量計，混氣路數可以是2路、3路、4路、5路相混合，可以對多種氣體進行精確的混氣，然后導入到管式爐內部。

KJ-T1200-S6015LK1-H系列快速退火爐爐管兩端安裝真空法蘭，真空度用分子泵可以到10-5Torr，機械泵可到10-3Torr。爐底安裝一對滑軌，可用手動滑動。加熱和冷卻速率可達100°C/m。為取得加熱，可以預先加熱爐子到設定的溫度，然后移動爐子到樣品位置。為獲得冷卻，可在樣品加熱后移動爐子到另一端。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環境下可以達到10°C/s，是低成本快速熱處理的理想爐子。

應用范圍：

KJ-T1200-S6012CK-3F5S型高溫真空CVD設備是一種特殊的高真空CVD系統，廣泛應用于半導體工業中沉積薄膜材料，包括大范圍的絕緣材料，以及大多數金屬材料和金屬合金材料、二維材料等，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結等實驗。

是高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火用的理想產品。

規格參數：

結構	采用雙層殼體結構，并帶有分冷，使得殼體表面的溫度小于55°C。保溫材料采用高純氧化鋁多晶纖維可以環保節能，減少熱量的損失內爐膛表面涂有進口的高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率，同時也可以延長儀器的使用壽命
加熱元件	摻鉬合金加熱絲
工作溫度	1100°C
溫度	1200°C
升溫速率	20°C/min
加熱區長度	400mm (18")
恒溫區長度	180mm(+/-1°C)
溫控系統	一個精密溫度控制器 PID方式控制，通過可控硅 SCR可設置30段升降溫程序。
控溫精度	+/-1°C
爐管材質和尺寸	石英管 ID: 72mm x OD: 80 mm x 1000 mm
密封法蘭	兩個不銹鋼密封法蘭，法蘭上已經安裝數字式真空顯示計，和閥門通過機械泵真空壓力可以達到5x10-2 torr，泄漏率6 mtorr/min
輸入電源	AC 208~240V, 單相, 50/60Hz, 功率：5KW
真空泵和配件	真空泵	一個雙旋片式機械泵安裝在移動架內通過此機械泵真空度可以達到 5x10^-2 torr
	配件	標配的真空配件: 一對不銹鋼密封法蘭和KF-25 真空泵接口，兩個不銹鋼針閥， 1/4"的軟管接頭一個1000mm長的KF-25 不銹鋼波紋管和四個KF-25不銹鋼快速卸裝卡箍一個LED數字式真空顯示計（測量范圍： 0.1mtorr ~ 850 torr)
氣體流量計	4個浮子流量計，可同時混入4種不同氣體。四通道控制精度0.02% 、數字顯示、自動控制、一個混氣罐、底部裝有泄廢液口 MFC 1范圍 0~100 sccm MFC 2和3 0~500 sccm 進氣接口 1/4NPS 出氣接口 1/4NPS
產品尺寸	外徑80 & 1000mm 的氧化鋁石英管爐體尺寸：550 x 500 x 700mm L x W x H 混氣系統：: 600 x 600 x 700mm 真空機組： 600 x 600 x 700mm

標準配件：

浮子混氣系統1臺、雙旋機械泵1臺、K型熱電偶1支、氣煉石英爐管1根、不銹鋼法蘭1套、不銹鋼爐鉤1、剛玉爐塞2對、高溫手套1副、剛玉坩堝2個、說明書1份

注：坩堝可按用戶需求選配合適的款型

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